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解決方案

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ITO（氧化銦錫）靶材

作用：
氧化錫是ITO靶材的關(guān)鍵成分之一（通常占10%），它與氧化銦（In?O?）燒結(jié)成靶材，用于濺射透明導(dǎo)電薄膜層。
純度和粒度：
純度：通常要求4N（99.99%）以上，高端應(yīng)用則需要5N（99.999%）。
粒度：納米級（20-100nm），以確保濺射形成的薄膜具有均勻的導(dǎo)電率和透光率。
電子陶瓷

作用：
氧化錫作為添加料用于電子陶瓷，主要用于制造多層陶瓷電容器（MLCC）、壓敏電阻和熱敏電阻，以及微波介電陶瓷。
純度和粒度：
純度：范圍從3N（99.9%）到4N（99.99%）。
粒度：可以是微米級（1-10μm）或納米級（20-100nm）。
氧化錫電極

作用：
氧化錫是制造氧化錫電極的主要材料，用于高檔光學(xué)玻璃的熔煉，如火石類玻璃、鋇火石、鋇冕及重冕玻璃等，且不會污染玻璃。
純度和粒度：
純度：要求至少4N（99.99%），以確保良好的電化學(xué)性能。
粒度：納米級（50-200nm），以提高電極的反應(yīng)活性。
TFT-LCD玻璃基板

作用：
氧化錫是制造高透光率液晶玻璃和OLED玻璃的重要輔料，有助于減少玻璃中的氣泡，從而提高玻璃的強度和透光率。
純度和粒度：
純度：通常為3N（99.9%）。
粒度：微米級（1-100μm）。

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